Der PCP-Filter ist ein hochleistungs-Tiefenfilter und kommt hauptsächlich im CMP-Prozess (Chemical Mechanical Planarization) in der Halbleiterindustrie zum Einsatz.
Typische CMP-Slurries bestehen aus einem Nanopartikel-Schleifmittel, das in einer sauren oder basischen Lösung dispergiert ist. Die Herausforderung liegt darin die funktionellen Schleifpartikel von den Agglomeraten und/oder Gele zu trennen.
Die für CMP optimierten Filtrationsstufen der PCP sind effektiv und führt zu einer Reduzierung von Defekten sowie zu einer Steigerung der Prozesseffizienz.
PCP-Filter bieten Charge für Charge eine gleichmäßige und konsistente Leistung.
Unabhängig davon, an welcher Stelle des Prozesses sie eingesetzt werden.
- im Polierkreislauf
- an der Point-of-Use (POU) (dann als 4“ Capsule mit Swagelock, NPT oder Flare)
- beim Auffüllen der Vorratsbehälter im Fab mit frischer CMP-Slurry
PCP-Filterkerzen sind mit einer Porengröße von bis zu 0,1 Mikrometern erhältlich.
Für noch geringere Porengrößen kombiniert CSM PP- und GF-Medien, um Partikel von bis zu 0,04 Mikrometern zu entfernen.
CSM hat als Koreanischer Hersteller eine große Erfahrung in diesem Bereich und beliefert führende Chip-Hersteller in Asien.
Anwendungen : CMP, Nano-Partikel-Dispersionen, keramische Dispersionen (MLCC)
| Filterfläche in m2/ 10 Zoll Länge | Tiefenfilter |
|---|---|
| Abmessungen | |
| Außendurchmesser | 68 mm |
| Längen in Zoll (inch) | 10, 20 |
| Max. Druckdifferenz bei 20°C | 3 bar |
| Max. Temperatur | 80°C |
| Materialien | |
| Filtermedium | Polypropylen |
| Endkappen, Kern | Polypropylen |
| O-ringe und Flachdichtungen | EPDM, FKM und die anderen gängigen Elastomere. |
| Porengröße in µm |
0,1 0,2 0,3 0,5 1 3 5 7 |
| Adapter |
Einseitig offen, flache Endkappe und 222 O-ringe Einseitig offen, Endkappe mit Spitze und 222 O-ringe Einseitig offen, Endkappe mit Spitze und 226 O-ringe |
